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Hidratación y Reparación: Enriquecido con extractos botánicos y péptidos
Hidrocoloide: Material que absorbe las secreciones del grano
suave y firme desde la primera semana
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Doble Limpieza SKIN1004 Madagascar Centella Double Cleansing Duo mask Hidratación y Reparación: Enriquecido conDespacho Inmediato Este do de limpieza coreana est formulado con extracto de Centella Asiatica 100% pura de Madagascar, ideal para pieles sensibles, mixtas o con tendencia al acn. Su sistema de doble limpieza remueve eficazmente el maquillaje, protector solar, impurezas y exceso de sebo sin alterar la barrera natural de la piel. Incluye: SKIN1004 Centella Light Cleansing Oil (200ml) Aceite liviano que derrite maquillaje y residuos lipdicos sin dejar